用語集

レジスト剥離液とは、半導体製造やプリント基板の加工に使用される化学薬品で、フォトレジスト層を効率的に除去するための液体です。フォトレジストは光に反応して硬化し、回路パターンを形成しますが、加工後には剥離が必要です。レジスト剥離液は、この硬化したレジストを迅速かつ確実に溶解・除去し、基板の再加工や次の工程に備えるために使用されます。高い除去能力と適切な安全性を持つ製品が求められます。